Laboratoire intégré des microsystèmes (MEMS) / Lithographie / Dépôt moléculaire
Yield Engineering – YES PBV200 Vertacoat
Fournisseur :
Modèle :
Fonction :
Recuit / Cuisson / Cuisson sous température contrôlée et pression sous-atmosphérique
CAPACITÉ
Tranche jusqu’à 200 mm de diamètre
Tranches de production par chargement: 50
Plage d’épaisseur des tranches: 300 – 1700 µm
Plage de température: 20 – 450 ° C
Plage de pression: 10-6 – 500 Torr
Gaz utilisés: oxygène, azote, gaz de formage (H2 4% et N2 96%)
Matériau de la tranche: silicone, verre, plaquettes liées
Procédés:
- Déshydratation des tranches
- Cycles de recuit d’activation plus efficaces
- Résistances à couches minces traitements thermiques
