PVA Tepla GIGAbatch 690

Blog Archives

CAPABILITY  Working volume 21’’ H x 14.5’’ W x 27 ‘’D 9 quartz shelves in the chamber Electrode on chamber

11 February 2017

CAPABILITY: High speed, uniform plasma cleaner Parallel plate RF back-sputtering method O2 (option Ar) High frequency power source 100 W

11 February 2017

En naviguant sur notre site, certains témoins peuvent être conservés dans votre navigateur ou récupérés à partir de celui-ci. Ces informations peuvent porter sur vous, vos préférences ou votre appareil et sont principalement utilisées pour s'assurer que le site fonctionne correctement. Les informations ne permettent pas de vous identifier directement, mais peuvent vous permettre de bénéficier d'une expérience Web améliorée. Parce que nous respectons votre vie privée, nous vous donnons l'opportunité de ne pas autoriser ces témoins.

Close Popup
Privacy Settings saved!
Paramètres de confidentialité

En naviguant sur notre site, certains témoins peuvent être conservés dans votre navigateur ou récupérés à partir de celui-ci. Ces informations peuvent porter sur vous, vos préférences ou votre appareil et sont principalement utilisées pour s'assurer que le site fonctionne correctement. Les informations ne permettent pas de vous identifier directement, mais peuvent vous permettre de bénéficier d'une expérience Web améliorée. Parce que nous respectons votre vie privée, nous vous donnons l'opportunité de ne pas autoriser ces témoins.


Google Analytics
We track anonymized user information to improve our website.
  • _ga
  • _gid
  • _gat

Refuser
Save
Accepter