Laboratoire intégré des microsystèmes (MEMS) / Lithographie / "5X Stepper"
CAPACITÉ:
5X Stepper Aligner
Résolution jusqu’à 350 nm
Alignement avant-avant: 50 nm, 3 sigma
Alignement dos à dos: 80 nm, 3 sigma
Alignement avant-arrière: 210 nm, 3 sigma
Interface directe avec la piste de développement de revêtement TEL
Expositions de film sec
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