Laboratoire intégré des microsystèmes (MEMS) / Gravure sèche / Gravure de silicium
Fournisseur :
Modèle :
Fonction :
Dépôt chimique en phase vapeur assisté par plasma de silicium amorphe, de nitrure de silicium et de tétraéthylorthosilicate (TEOS)
CAPACITÉ:
Module SI DRIE
Source de plasma double brevetée avec zones de plasma découplées primaires et secondaires contrôlées indépendamment
Excellente uniformité
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