CAPACITÉ: Opération d’entrée / sortie automatisée de pod SMIF de séchage / séchage; Le mini-environnement dans un banc humide garantit
CAPACITÉ: Choix des sources de plasma Le gax de formage à 3.5% offre l’avantage de la catalyse pour la génération
CAPACITÉ: Taille de la tranche: 200 mm Plage d’épaisseur des tranches: 300 – 1200 µm Matériau de la tranche: silicone,
CAPACITÉ: Taille de la tranche: 200 mm Plage d’épaisseur des tranches: 300 – 1200 µm Matériau de la tranche: silicone,
CAPACITÉ: Gestion automatisée des tranches Modules de nettoyage compatibles pour les processus via cuivre / tungstène via silicium Polissage standard
CAPACITÉ: Épaisseur d’oxyde thermique: 140 ± 6 nm et 900 ± 20 nm Non uniformité de l’épaisseur de la tranche:
CAPACITÉ: Taille de la tranche: 200 mm Tranches de production par chargement: 50 Plage d’épaisseur des tranches: 300 – 1700
CAPACITÉ: Taille de la tranche: 200 mm Tranches de production par chargement: 50 Plage d’épaisseur des tranches: 300 – 1700
CAPACITÉ: Traitement de tranches de 200 mm et de dispositifs MEMS intégrés en 3D avec des packages de niveau tranche.
CAPACITÉ: Opération d’entrée / sortie automatisée de pod SMIF de séchage / séchage; Le mini-environnement dans un banc humide garantit
